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一、 設(shè)備的主要用途
本設(shè)備主要適用于電力電子器件、機(jī)車電子器件、傳感器件、石英晶體振蕩器、混合電器、雙向可控硅、對(duì)地放電二極管及功率半導(dǎo)體器件等基片正反兩面需要進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)（套刻）的曝光。
二． 主要技術(shù)指標(biāo)：
（1）本機(jī)采用雙面對(duì)準(zhǔn)單面曝光方式。
（2）基片X、Y、θ對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)，X、Y移動(dòng)：±5mm，θ轉(zhuǎn)角≤±5°。
（3）基片與掩膜對(duì)準(zhǔn)精度（包括與記憶圖形的對(duì)準(zhǔn)精度）≤0.001mm。
（4）板架來(lái)回翻轉(zhuǎn)重復(fù)精度≤0.004mm。
（5）采用蠅眼曝光頭，曝光面積：≤Φ100mm，光的不均勻性：≤±3%，光強(qiáng)可調(diào)，350W直流汞燈。
（6）適用于Φ4″、Φ3″、Φ2″基片，配有三種不同的承片臺(tái)和相對(duì)應(yīng)的板架。
（7）顯微系統(tǒng)放大倍數(shù)：51～323倍（連續(xù)變倍）。
三．設(shè)備的主要特點(diǎn)：
（1）采用計(jì)算機(jī)、軟件對(duì)版上記憶的圖形（光刻標(biāo)記）對(duì)基片進(jìn)行曝光。
（2）獨(dú)特的翻板機(jī)構(gòu)，使上版、下版、放片、取片非常方便。
（3）版的記憶圖形、片下平面需要對(duì)準(zhǔn)圖形在同一水平面上，排除下面二個(gè)臥式顯微鏡需要下移一個(gè)片厚而引起的誤差。
（4）本設(shè)備具備多重功能，它既是雙面曝光機(jī)，又是普通曝光機(jī)，還可當(dāng)一臺(tái)檢查雙面對(duì)準(zhǔn)精度的檢查儀。
成都鑫南光機(jī)械設(shè)備有限公司是一家專業(yè)從事四川真空泵,四川光刻機(jī),四川氫氣爐生產(chǎn)及銷售批發(fā)工作的企業(yè),咨詢電話:13908187709,028-85730519,擁有先進(jìn)的技術(shù)裝備和獨(dú)特的設(shè)計(jì),具有豐富的專用設(shè)備裝配調(diào)試技術(shù)和經(jīng)驗(yàn)。
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