德國海德堡Heidelberg激光直寫光刻機DWL 2000/4000

科研型與量產(chǎn)型兼具的激光直寫設備高速、高靈活度與高精度的光學系統(tǒng)4096階灰階光刻功能

DWL2000和DWL4000激光光刻系統(tǒng)為快速、靈活的高分辨率圖形產(chǎn)生器，用于制作光罩和直寫。這些系統(tǒng)的寫入面積高達200x200mm²與400x400mm²，是MEMS、BioMEMS、Micro Optics、ASICs、Micro Fluidics、Sensors，CGH以及所有其他微結構應用里，需快速構圖于光罩和硅片的完美方案。

除了高分辨率的2D圖形之外，還提供灰度光刻曝光模式，可在厚光刻膠中創(chuàng)建復雜的3D結構。與其他技術相較，此光刻技術能夠在大面積中產(chǎn)出3D微結構。優(yōu)化評估灰度曝光的特殊軟件工具，減少新圖像設計的循環(huán)時間。為了確保最低的表面粗糙度和形狀一致性，該系統(tǒng)支持高達4096灰度級，在業(yè)界中具備無與倫比的性能。常見的應用包括部份大型的跨國公司制造用于電信或照明產(chǎn)業(yè)的晶圓級光學器件，其他新應用包括顯微鏡制造以及生物學和生命科學領域的器件制造。

高速多用途平版印刷系統(tǒng)

DWL 2000 是一種高速，高適應性，高精度的掩模激光直寫系統(tǒng)。除了擅長繪刻各種2D圖形，也可以在厚膠板材上繪刻3D圖形。

刻寫最大面積達到200 x 200 mm2 ，該系統(tǒng)是MEMS, BioMEMS, Micro Optics, ASICs, Micro Fluidics, Sensors, CGHs及其它需要刻畫微觀結構應用的首選.

?？虒懽畲竺娣e 200 x 200 mm2

?？虒懽钚〗Y構尺寸 0.6 μm

。最小分辨距離 10 nm

。多種曝光模式

。3D 曝光模式

。CCD成像坐標校準系統(tǒng)

。雙面校準系統(tǒng)

。帶溫度控制的機殼

。可選配客戶指定的激光光源

。光學及氣壓控制自動對焦

。腳本擴展功能

。支持多種客戶圖形格式(DXF, CIF, GDSII, Gerber, STL)

。在線圖形數(shù)據(jù)傳輸

。平臺坐標矩陣校正

。自動上板系統(tǒng)

應用于高分辨率掩膜版制作的高端激光成像設備

DWL 4000平臺移動范圍達到400 mm x 400 mm，可以完美的支持高精度的掩模板和干板繪刻。DWL 4000可應用于MEMS, SAW Devices, ASICS, MCMs等復雜的微觀集成光路和顯示技術。

DWL 4000分為兩種型號，一種為DWL 4000DD，一種為DWL 4000FBM。除了傳統(tǒng)的2D繪刻功能外，新型設備還支持復雜的3D圖形繪刻，例如：利用灰階技術去制作微光學應用。

。刻寫最大面積 400 x 400 mm2

。刻寫最小尺寸結構 0.6 μm

。最小分辨距離 10 nm

。多種曝光模式

。自動更換寫頭

。高級3D曝光模式

。測量及校準系統(tǒng)

。帶溫度控制的機殼

?？蛇x配客戶指定的激光光源

。在線圖形數(shù)據(jù)傳輸

。自動上板系統(tǒng)

。支持多種客戶圖形格式 (DXF, CIF, GDSII, Gerber, STL)

。平臺坐標矩陣校正