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SFQ/SFQZ系列濕法設備廣泛應用于集成電路、光電子器件、MEMS及分立器件、半導體材料加工、太陽能光伏等領域,用于各種半導體基片及類似材料制造過程中濕化學處理工藝,有手動、半自動及全自動三種配置。
六大專有技術
濕法清洗設備系統(tǒng)集成技術
氣/液自動傳輸及控制技術
材料與化學工程防護技術
溫度傳遞及精確控制技術
晶片自動傳輸及自動控制技術
溶液流場均勻性控制技術
主要技術特點:
系統(tǒng)結構:設計緊湊、潔凈、防腐、安全、多種式樣機架可供選擇
控制方式:采用高性能PLC或工控機實現集中控制,結合單元功能控制簡化操作
槽體配置:材料:NPP、PVDF、PTFE、石英、PVC、不銹鋼等多種材料
功能:恒溫控制(加熱/制冷)、循環(huán)、過濾、自動補液、抖動、旋轉、超聲/兆聲、溢流、快排、鼓泡、干燥等
定制設計:根據用戶要求提供工藝配置及技術支持
ECD系列:
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