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    SENTECH 原子層積淀(ALD)

    應用于半導體行業(yè):

    半導體加工設備-鍍膜設備-原子層沉積ALD

    產(chǎn)品品牌

    Sentech

    庫       存:

    1

    產(chǎn)       地:

    德國

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    面議
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    品牌:Sentech

    型號:

    所屬系列:半導體加工設備-鍍膜設備-原子層沉積ALD

     ALD逐層沉積,在三維形貌沉積中保持高的均勻性,通過工藝過程中分步添加前置物,可以準確的控制膜厚和薄膜特性折射率和消光系數(shù)。PE-ALD是一種先進的方法,通過將自由基(radical)的氣體樣品,而不是水(沉積過程中作為氧化物oxidizer)。 


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