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    SVT Associates' NorthStar? 原子層沉積(ALD)系統(tǒng) 高德

    應(yīng)用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-原子層沉積ALD

    產(chǎn)品品牌

    高德

    庫       存：

    100

    產(chǎn)       地：

    全國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    品牌：高德

    型號：

    所屬系列：半導體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-原子層沉積ALD

    SVT Associates' NorthStar™ 原子層沉積(ALD)系統(tǒng)

     

    工作原理：

    一個ALD 周期 由2個不同的表面化學反應(yīng)組成， 反應(yīng)可自我終結(jié)，所以只有一個原子層的薄膜會在襯地的表面上生長。在一層接一層的生長過程中，薄膜可以高度保型和厚度均勻。而薄膜的厚度可以在納米范圍內(nèi)由反應(yīng)周期的數(shù)量來控制。

     

     

    特點：

    • 最多8 個前趨體源
    • 熱壁沉積腔體
    • 能夠與其他沉積系統(tǒng)和計量工具連接
    • 自動化系統(tǒng) /軟件 - RoboALD™

     

     

    應(yīng)用范圍：

    • 高k電介質(zhì)
    • 納米涂層
    • 表面修飾層
    • 器件封裝
    • MEMS
    • 光子晶體

     

     

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