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    GXE200系列等離子刻蝕機 半導體應用

    應用于半導體行業(yè):

    半導體加工設備-刻蝕設備

    庫       存:

    1

    產(chǎn)       地:

    中國-北京市

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    面議
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    品牌:

    型號:

    所屬系列:半導體加工設備-刻蝕設備

     面向4-8英寸襯底0.25μm以上技術代的通用高密度等離子體刻蝕設備,集成高密度等離子體源、高壽命卡盤、精密的腔室溫度控制系統(tǒng),快速匹配的射頻系統(tǒng)等多項先進技術。GXE刻蝕機可滿足硅、介質(zhì)、化合物半導體的刻蝕工藝需求。
    GSE200系列等離子刻蝕機
     
    • 支持8 路氣體配置
    • 適用于多種材料刻蝕的研發(fā)及失效分析
    • 提供研發(fā)所需的豐富的工藝數(shù)據(jù)庫支持
    • 適用于8 寸及以下各種形狀的樣片加工
    • 低運營成本
     
    GDE200系列等離子刻蝕機
     
    • 適用于光波導、SiC 等介質(zhì)刻蝕工藝領域
    • 低使用成本,低犧牲耗材
    • 界領先的刻蝕速率
    • 成熟的SiC、U-MOS、二極管及通孔刻蝕工藝解決方案
    • 靈活的系統(tǒng)配置,適合研發(fā)、中試線、大規(guī)模生產(chǎn)線的不同應用
    •  
    GCE200系列等離子刻蝕機
     
    • 適用于Ⅲ-V 族、HEMT、激光器領域
    • 可實現(xiàn)低于2nm/min 的GaN 刻蝕速率
    • 低運營成本
    • 有效降低器件損傷
    • 靈活的系統(tǒng)配置,適合研發(fā)、中試線、大規(guī)模生產(chǎn)線的不同應用

    GXE200S
     
    • 單腔室,自動傳輸,適用于研發(fā)及小規(guī)模生產(chǎn);
    • 更小占地面積和操作靈活性,有效降低采購和使用成本;
    •  
    GXE200C
    •  
    • 單腔室,c-c自動裝卸載,自動傳輸,適用于研發(fā)及規(guī)模生產(chǎn);
    • 更高自動化程度,有效提高生產(chǎn)效率和穩(wěn)定性;
    • 全自動大產(chǎn)能設備,配備多腔室,全自動裝卸載和傳輸模塊,適用于大規(guī)模生產(chǎn)線;
    • 支持批量生產(chǎn)的設備架構,可實現(xiàn)工廠級別的自動化控制,有效降低人力成本和差錯率
     
    GXE200L
    • 全自動大產(chǎn)能設備,配備多腔室,全自動裝卸載和傳輸模塊,適用于大規(guī)模生產(chǎn)線;

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    提問:
     

    請問你這個GXE200系列是單腔的嗎,多少路氣體的,加工幾寸規(guī)格的?

    dssj  2017-07-13

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    4001027270

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