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    UETCH HF干法刻蝕系統(tǒng)

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè):

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-刻蝕設(shè)備-HF刻蝕設(shè)備

    規(guī)格型號:

    單片式

    庫       存:

    2

    產(chǎn)       地:

    英國

    數(shù)       量:

    減少 增加

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    品牌:

    型號:單片式

    所屬系列:半導(dǎo)體加工設(shè)備-刻蝕設(shè)備-HF刻蝕設(shè)備

    詳細介紹:詳細描述:SPTS公司擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的無水氫氟酸氣相刻蝕工藝。相比市面上其他廠商以液態(tài)氫氟酸氣化或者其他載氣輸運模式,SPTS采用以氣態(tài)乙醇作為載氣與
    氣態(tài)氫氟酸混合后對二氧化硅介質(zhì)進行選擇性蝕刻,并及時處理在反應(yīng)過程中出現(xiàn)的水汽,真正做到無水刻蝕。一方面體現(xiàn)出對硅襯底,金屬以及低應(yīng)力氮化硅等都有非常好的選
    擇性,因為在水汽作用下,金屬等其他材料也會被氫氟酸所腐蝕;另一方面在沒有水汽的環(huán)境中供刻蝕釋放的器件不會出現(xiàn)由于液態(tài)張力而與襯底表面的粘附性失效。 

    SPTS的HF氫氟酸刻蝕設(shè)備提供多方面的工藝可調(diào)性,客戶可以根據(jù)本身產(chǎn)品的需求在工藝溫度,工藝壓力,各種氣體分壓,各種氣體流量等參數(shù)中選擇最適合的參數(shù)來優(yōu)化產(chǎn)品
    性能。

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