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    包郵 關(guān)注:1228

    Laurell濕法刻蝕臺

    應用于半導體行業(yè):

    半導體加工設備-刻蝕設備-HF刻蝕設備

    庫       存:

    100

    產(chǎn)       地:

    中國-廣東省

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    面議
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    品牌:

    型號:

    所屬系列:半導體加工設備-刻蝕設備-HF刻蝕設備

     名稱:WS-1000濕法刻蝕設備Wet Station

    產(chǎn)地:美國
    品牌:Laurell
    濕法設備Wet Station

    濕法刻蝕設備特征:
     All white polypropylene construction
     Any Laurell Spin Processor(s) installed
     Easy-access Nitrogen&DI Spray guns
     Need a smaller size?-see our MINI

     全白色聚丙烯構(gòu)造
     可內(nèi)置任何Laurell公司的勻膠機(即旋涂儀)
     排放簡便的入氮口和DI噴頭
     如果需要更小尺寸——有微型濕法設備Wet Station供選擇

    GENERAL INFORMATION
    濕法刻蝕設備一般信息
    The Laurell WS-1000 Series Spin-Process Stations allow a fully configuredtested module to be constructedshipped complete-requiring only the minimum of installation time. Easy to loadoperate-everything is in convenient reach to the operator.
    Laurell公司的WS-1000系列旋轉(zhuǎn)處理濕法設備Wet Station可以被配置成測試模塊構(gòu)造,安裝簡便,易于拆卸,更便于操作者控制。
    Typical processes for the WS-1000 include, but are not limited to:
    典型的WS-1000濕法刻蝕設備Wet Station處理過程包括(但不限于):
     Coating
     Etching
     Developing-Aqueous/Solvent
     Cleaning-Aqueous/Solvent
     Yes, Sulfuric/Peroxide(insitu mixing)
     Yes, HBr
     Temperature-controlled Developing
     Rinsing/Drying
     涂敷
     蝕刻
     開發(fā)-水/溶劑
     清洗-水/溶劑
     確認,硫酸/雙氧水(原樣混合)
     確認,HBr
     溫控開發(fā)
     沖洗/烘干
    Wet Station Features:
    濕法刻蝕設備Wet Station特點:
    All polypropylene construction(Self-extinguishing available-see below)
    Accommodates the installation of any Laurell spin processor
    Perforated wet-deck(easily removable)
    Wet plenum
    Exhaust Plenum with gauge
    Isolated component/drawer below for heaters, pumps, vessels…
    全聚丙烯構(gòu)造(見下文的自滅火功能)
    可兼容安裝任何Laurell 旋涂機
    有排孔的濕隔層(易于拆除)
    潮濕的空間
    標準規(guī)格的排氣空間
    被熱水器,水泵,容器等隔離的組件/容器
    Wet StationOptions:
    濕法刻蝕設備Wet Station選項:
     Processor exhaust interlockcontrol(standard on some models)
     Heating&insitu material stirring
     Rinse to resistivity
     Drain diverter(s)
     Vacuum loading wand
     Wafer cassette stand
     Leak detection
     Light towers
     排氣聯(lián)鎖控制處理器(一些型號是標準的)
     加熱和原材料攪拌
     抵抗力沖洗
     排水轉(zhuǎn)向裝置
     真空負荷棒
     晶片盒座
     檢漏
     輕塔

    Advanced materials available if required
    濕法刻蝕設備Wet Station可以根據(jù)要求采用更高級的材料

    Better
    更好的濕法設備Wet Station
    WS-1000-CP5-meets SEMI S93 specification for fire safety in clean room applications. CP5 meets UL94 V-O fire classification. It has an excellent babance of physical properties, chemical resistancefire safety.
    WS-1000-CP5 濕法設備Wet Station符合SEMI S93標準應用在消防安全和潔凈空間等領域。CP5符合UL94 V-O 火災分類標準。它具有優(yōu)良的平衡的物理性能,耐化學**性和耐火性。

    Best
    最佳的濕法設備Wet Station
    WS-1000-CP7-D-a flame retardant polypropylene formulation who’s flame retardant characteristics meet the most rigorous FMRC 4910 testing standards for most aspects of flame retardation, self-extinguishing characteristicsburn-through. This advanced material also meetsexceeds test standards for low smoke generationminimal toxic by-products.
    WS-1000-CP7-D濕法設備Wet Station的材料阻燃特性符合最嚴格的FMRC 4910測試標準,滿足多方面條件下的難燃性,自熄特點和徹底燃燒。這種先進的材料也達到或超過產(chǎn)生低煙和最小*副產(chǎn)品的檢測標準。

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