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PVA TePla微波等離子體去膠機(jī)

IoN Wave 10 等離子體去膠機(jī)是PVA TePla 在微波等離子體處理工藝中的最新產(chǎn)品。該批次式晶圓灰化設(shè)備成本低廉、尺寸適用、性能先進(jìn)。其使用最新的、性能出色的組件和軟件，可對(duì)工藝參數(shù)進(jìn)行精確控制。其工藝監(jiān)測(cè)和數(shù)據(jù)采集軟件可實(shí)現(xiàn)最嚴(yán)格的質(zhì)量控制。占地面積小，安裝維護(hù)簡(jiǎn)單。依靠微波等離子體技術(shù)，該設(shè)備在提供極高的光刻膠灰化速度的同時(shí)，最大程度較低了產(chǎn)品暴露在靜電中風(fēng)險(xiǎn)。

型號(hào)：IoN Wave 10， PS210,

典型應(yīng)用：

去除光刻膠 Photo-resist stripping

去除殘膠 Wafer descum

晶圓和襯底的清潔 Wafer and substrate cleaning

su-8灰化 Su-8 ashing

氮化硅、聚酰亞胺等的刻蝕 Etching of silicon nitride, pi, etc.

刻蝕鈍化層 Etching of passivation layers

逆向分析/失效分析中的器件開(kāi)封 Device decapsulation for failure analysis

微量分析中低溫材料灰化 low temperature ashing of materials for chemical trace analysis ion_wave_10_stripe11

過(guò)濾器和薄膜的清潔 Cleaning of filters and membranes

規(guī)格參數(shù)：

2.45GHz風(fēng)冷微波電源（0～600w可調(diào)），

石英或陶瓷腔體，

防腐蝕不銹鋼MFC,

多至6路氣體，

兼容8英寸及以下晶圓

PC 工控機(jī)控制，運(yùn)行數(shù)據(jù)自動(dòng)存儲(chǔ)；分級(jí)控制權(quán)限，防止操作

圖形化觸控屏界面，運(yùn)行狀態(tài)圖形化實(shí)時(shí)顯示。

自動(dòng)/手動(dòng)隨意切換

可選配法拉第桶

可選配溫控系統(tǒng)

可選配壓力控制系統(tǒng)

外形尺寸：775×749×781 mm

認(rèn)證：

CE 認(rèn)證

EN 61010

EN 61326

Semi E95

ISO 9001

PVA TePla 微波等離子體去膠機(jī) IoN Wave 10

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