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快速熱處理設(shè)備（RTP）可用于砷化鎵、硅以及其他半導(dǎo)體材料，離子注入后的退火、硅化物的形成、歐姆接觸制備以及快速氧化、快速氮化等方面。RTP系列快速合金設(shè)備具有快速升降溫、慢速升降溫、和長(zhǎng)工作時(shí)間穩(wěn)定等特點(diǎn)。也可用于各種半導(dǎo)體材料的CVD工藝的熱處理。
主要技術(shù)指標(biāo)
l　　　整機(jī)尺寸：550×650×650mm（長(zhǎng)×寬×高）
l　　　爐體尺寸：327×249×123mm（長(zhǎng)×寬×高）
l　　　工作室采用進(jìn)口GE石英，外徑尺寸：290×230×24mm（長(zhǎng)×寬×高）；表面進(jìn)行磨砂處理
l　　　不銹鋼反應(yīng)室上下反射面聚焦設(shè)計(jì)，內(nèi)表面采用鍍金處理，減小熱損失，極大提高了反射效率
l　　　水冷卻，確保燈箱散熱與快速降溫
l　　　風(fēng)扇冷卻保證加熱燈的冷卻
l　　　最大溫度范圍150℃—1000℃，K型熱電偶
l　　　升溫速率：0.01—100℃/s可預(yù)設(shè)定
l　　　氣體：兩路美國(guó)進(jìn)口浮子流量計(jì)控制，流量：0—5L/min
l　　　采用歐陸2604高精度溫控儀控制溫度
l　　　可編程多條溫度曲線(xiàn)
l　　　雙閉環(huán)控制溫度，穩(wěn)態(tài)溫度穩(wěn)定性±1℃
l　　　光源：1200W×21只鹵鎢燈
l　　　電源：AC380V；63A三相
l　　　有效加熱區(qū)：180×180mm
l　　　石英承片架Ф160mm；配6英寸硅片承片板
l　　　提供備件：鹵素?zé)?只，門(mén)密封圈2個(gè)

RTP系列快速熱處理設(shè)備

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