服務(wù)熱線
4001027270
● 用 途:
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GaN芯片退火、合金工藝
外延片活化工藝
紅黃光,濕氧氧化工藝
● 特 點(diǎn):
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全自動(dòng)送取料
溫度快速恢復(fù)
工藝氣體加熱
芯片預(yù)熱功能
可選配濕氧氧化系統(tǒng)
可升級(jí)為負(fù)壓系統(tǒng),可抽真空
PC自動(dòng)控制
● 技術(shù)指標(biāo):
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使用溫度范圍 |
RT-1100℃ |
Waffe尺寸 |
2-6英寸 |
放片量 |
100-200片 |
升溫速率 |
20℃/min 可調(diào) |
工藝氣體 |
N2、O2 |
氣體控制 |
MFC、氣動(dòng)閥 |
真空機(jī)組(選配) |
干式機(jī)組 |
溫度均勻性 |
±1℃(400-800℃) |
控制 |
工業(yè)PC |
報(bào)警 |
溫度、壓力、氣體、動(dòng)作報(bào)警等 |
電源 |
三相五線、50HZ、380V |
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