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RTA快速退火爐

屏幕快照 2016-02-08 下午1.29.11.png

● 用途：

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活性退火、合金

薄膜生成退火

歐姆電極燒結(jié)

● 特點(diǎn)：

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采用紅外測(cè)溫方式，快速準(zhǔn)確測(cè)溫

加熱氣氛為真空、氣體、流動(dòng)氣體等

可進(jìn)行高速加熱、高速冷卻

紅外燈管，多溫區(qū)獨(dú)立加熱，功率可調(diào)

可進(jìn)行大片量Wafer退火工藝

低功耗，高產(chǎn)能

可選配機(jī)械手，進(jìn)行連續(xù)式工作

● 技術(shù)指標(biāo)：

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使用溫度范圍	RT-1100℃
Wafe尺寸	2-6英寸
放片量	16片
升溫速率	10-150℃/S 可調(diào)
工藝氣體	N2
氣體控制	MFC、氣動(dòng)閥
真空機(jī)組	選配、干式機(jī)組
真空度	10-3Pa（10-5Torr）
溫度均勻性	±3℃（300-800℃）
控制	工業(yè)PC
載料盤(pán)	碳化硅
報(bào)警	溫度、壓力、氣體、動(dòng)作報(bào)警等
電源	三相五線、50HZ、380V

RTA快速退火爐金立盾

應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

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