服務(wù)熱線
4001027270
● 用 途:
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活性退火、合金
薄膜生成退火
歐姆電極燒結(jié)
● 特 點:
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采用紅外測溫方式,快速準確測溫
加熱氣氛為真空、氣體、流動氣體等
可進行高速加熱、高速冷卻
紅外燈管,多溫區(qū)獨立加熱,功率可調(diào)
可進行大片量Wafer退火工藝
低功耗,高產(chǎn)能
可選配機械手,進行連續(xù)式工作
● 技術(shù)指標:
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使用溫度范圍 |
RT-1100℃ |
Wafe尺寸 |
2-6英寸 |
放片量 |
16片 |
升溫速率 |
10-150℃/S 可調(diào) |
工藝氣體 |
N2 |
氣體控制 |
MFC、氣動閥 |
真空機組 |
選配、干式機組 |
真空度 |
10-3Pa(10-5Torr) |
溫度均勻性 |
±3℃(300-800℃) |
控制 |
工業(yè)PC |
載料盤 |
碳化硅 |
報警 |
溫度、壓力、氣體、動作報警等 |
電源 |
三相五線、50HZ、380V |
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