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小型真空等離子清洗機TS-PL10 等離子系列 Plasma Series
等離子處理設(shè)備廣泛應(yīng)用于:
等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場合。通過其處理,能夠改善材料表面的潤濕能力,使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作,增強粘合力、鍵合力,同時去除有機污染物、油污或油脂。
產(chǎn)品特點:
1.環(huán)保技術(shù):等離子體作用過程是氣- 固相干式反應(yīng) ,不消耗水資源、無需添加化學(xué)藥劑,對環(huán)境無污染。
2.廣適性:不分處理對象的基材類型,均可進(jìn)行處理,如金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料都能很好地處理;
3.溫度低:接近常溫,特別適于高分子材料,比電暈和火焰方法有較長保存時間和較高表面張力。
4.功能強:僅涉及高分子材料淺表面(10 -1000A ),可在保持材料自身特性的同時,賦予其一種或多種新的功能;
5.低成本:裝置簡單,易操作維修,可連續(xù)運行,往往幾瓶氣體就可以代替數(shù)千公斤清洗液,因此清洗成本會大大低于濕法清洗。
6.全過程可控工藝:所有參數(shù)可由PLC設(shè)置和數(shù)據(jù)記錄,進(jìn)行質(zhì)量控制。
7.處理物幾何形狀無限制:大或小,簡單或復(fù)雜,部件或紡織品,均可處理。
技術(shù)參數(shù):
★設(shè)備外形尺寸:660(W)×700(D)×560(H)mm
★不銹鋼真空倉體尺寸:
200 × 200× 270(L) mm(約10升)
★低壓(真空)等離子清洗機倉體結(jié)構(gòu):
內(nèi)置進(jìn)口304不銹鋼真空腔
★低壓(真空)等離子清洗機射頻發(fā)生器:
頻率40KHZ,功率0-600W連續(xù)調(diào)節(jié),自動阻抗匹配
★低壓(真空)等離子清洗機控制系統(tǒng):
PLC觸摸屏全自動控制,采用歐姆龍、西門子等世界著名品牌電器元件,性能穩(wěn)定可靠,并具有手動、自動兩種控制模式
★低壓(真空)等離子清洗機真空系統(tǒng):
德國萊寶(Leybold)真空泵
進(jìn)口氣動真空角閥、充氣閥、DN40不銹鋼真空波紋管、高精度真空計、真空規(guī)管
★低壓(真空)等離子清洗機充氣系統(tǒng):
兩種工藝氣體配置(氬氣、氧氣),高精度電子質(zhì)量流量計、美國世維洛克氣體管路及閥件
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