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    VeecoTurboDisc K475i As/P MOCVD 系統(tǒng)

    產(chǎn)品品牌

    Veeco

    庫       存:

    100

    產(chǎn)       地:

    中國-上海市

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    10000.00
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    TurboDisc K475i As/P MOCVD 系統(tǒng)

    業(yè)界最高生產(chǎn)率和最高產(chǎn)量的 As/P MOCVD 系統(tǒng)。

    Veeco 全新的 TurboDisc K475i As/P MOCVD 系統(tǒng)是業(yè)界用于生產(chǎn)紅色、橙色、黃色 (R/O/Y) LED 以及多結 III-V 太陽能電池、激光二極管和晶體管的最佳反應腔。K475i 系統(tǒng)具有運用 Veeco 的 Uniform FlowFlange™ 技術的全新反應腔設計,所生產(chǎn)出的薄膜具有極高的一致性和更理想的晶片內(nèi)和晶片間重復性,以及業(yè)界最低的顆粒生成。Uniform FlowFlange 技術的簡單設計可輕松實現(xiàn)快速工藝優(yōu)化以及維護后的快速工具恢復時間,從而為照明、太陽能、激光二極管、贗配高電子遷移率晶體管 (pHEMT) 和異質結雙極型晶體管 (HBT) 等應用提供最高生產(chǎn)率。

    • 全新的 Uniform FlowFlange 技術設計可實現(xiàn)最佳的一致性和工藝重復性,從而帶來更高產(chǎn)量
    • 完善的反應腔設計不僅簡單易用,而且可加快維護后恢復,從而盡可能增加正常運行時間
    • 全自動運行可帶來業(yè)界最高的生產(chǎn)率
    • 經(jīng)實際生產(chǎn)驗證的平臺可提供最低的擁有成本
    Veeco公司稱,K475i設備采用了公司的專利TurboDisc和Uniform FlowFlange MOCVD技術,能夠生產(chǎn)出具有非常高的均勻性和可重復性的晶片薄膜和晶片基板。每個LED晶片可比其它替代系統(tǒng)減少20%的生產(chǎn)成本,目前業(yè)界最低。可幫助客戶實現(xiàn)更高的生產(chǎn)效率,優(yōu)質的收益,并降低運營成本。

      Veeco公司表示,K475i MOCVD系統(tǒng)的專利技術提供快速的流程優(yōu)化和快速的工具恢復時間,調(diào)試之后能夠實現(xiàn)卓越的生產(chǎn)效率,用于如照明,顯示器,激光二極管,太陽能電池,異質結雙極晶體管(HBTs)和假晶高電子遷移率晶體管(pHEMTs)等產(chǎn)品應用。  
                         

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