服務(wù)熱線(xiàn)
4001027270
產(chǎn)品名稱(chēng): | PECVD系統(tǒng)(三溫區(qū)) | |
產(chǎn)品簡(jiǎn)介: |
CNT等離子體增強(qiáng)沉積爐是專(zhuān)業(yè)生長(zhǎng)高質(zhì)量石墨烯、碳納米管、二維硫化鉬的專(zhuān)用設(shè)備,也可用用于碳化硅、金屬薄膜、陶瓷薄膜其他材料的生長(zhǎng),已經(jīng)廣泛應(yīng)用于航空航天、微電子、生物醫(yī)藥、納米材料等領(lǐng)域。 等離子體增強(qiáng)沉積爐主要由預(yù)熱爐(用于氣體預(yù)熱、固體原料蒸發(fā))、等離子射頻發(fā)生器、高溫生長(zhǎng)腔體、石英管、石英支架、氣路系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、自動(dòng)化控制系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)等組成。 1、預(yù)熱爐可以給進(jìn)入真空腔體的氣體或材料提前預(yù)熱、固體原料蒸發(fā),預(yù)熱溫度范圍室溫~800℃(可根據(jù)工藝的實(shí)際需要進(jìn)行調(diào)整); 2、等離子射頻發(fā)生器,輸出功率5 -500W可調(diào),頻率:13.56 MH 3、生長(zhǎng)腔體采用進(jìn)口高純石英管,配石英支架, 4、加熱腔體采用進(jìn)口陶瓷纖維加熱器,均溫區(qū)600mm、對(duì)開(kāi)式結(jié)構(gòu); 5、加熱爐體配有移動(dòng)滑軌,可左右移動(dòng); 6、密封法蘭均采用不銹鋼材質(zhì),配水冷套,可連續(xù)長(zhǎng)時(shí)間工作; 7、氣路系統(tǒng)采用多路質(zhì)量流量計(jì),配預(yù)混系統(tǒng); 8、真空系統(tǒng)采用機(jī)械泵,可選配擴(kuò)散泵或分子泵機(jī)組; 9、控制系統(tǒng)采用10寸觸摸屏加西門(mén)子PLC模塊; 10、氣體種類(lèi):N2、H2、CH4、C2H4D、He/Ar、C2H2、NH3、N2, H2、PH3、GeH4、B2H6等 11、溫度、氣體、真空、冷卻水等通過(guò)PLC控制,通過(guò)PC實(shí)時(shí)控制和顯示相關(guān)的實(shí)驗(yàn)參數(shù),自動(dòng)保存實(shí)驗(yàn)參數(shù),也可采用手動(dòng)控制; 12、系統(tǒng)采用集成化設(shè)計(jì),控制系統(tǒng)、混氣罐、質(zhì)量流量計(jì)等均內(nèi)置在箱體內(nèi)部,占地面積小。整體安裝四個(gè)可移動(dòng)輪子,方便整體移動(dòng)。 |
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技術(shù)參數(shù): |
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