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    德國海德堡Heidelberg 激光直寫光刻機 MLA100

    應用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設備-光刻設備-其它光刻設備

    產品品牌

    海德堡Heidelberg

    庫       存：

    1

    產       地：

    全國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    品牌：海德堡Heidelberg

    型號：

    所屬系列：半導體加工設備-光刻設備-其它光刻設備

     

    德國海德堡 激光直寫光刻機 MLA100


    適合用科研領域的中小型實驗室與大學研究所
    支持套刻直寫功能


    MLA100聚焦于合理價格下依然維持高性能，是許多研發(fā)應用的理想光刻解決方案。該光學系統(tǒng)設計為以50mm²/min的速度在光刻膠中直寫出1μm結構，而無需使用掩膜板。從光刻工藝中免除掩膜板步驟制程以增加靈活性并顯著縮短圖形制作周期。MLA100由曝光指引系統(tǒng)(GUI)控制，該系統(tǒng)可指導操作員完成整個過程：加載基材信息，選擇設計并開始曝光。面積為60x75cm²的MLA100設計用于安裝在中小型的研發(fā)實驗室中，只需要電源和壓縮空氣即可運行。

    MLA100的應用包括Life Science, MEMS, Micro-Optics, Semiconductor, Sensors, Actuators, MOEMS, Material Research, Nano-Tubes, Graphene以及任何其他需要微結構的應用。

    功能:

    刻寫速度: 50 mm²/分鐘的速度

    基板尺寸:6 x 6”

    曝露面積:100 x 100毫米

    結構精度: 1µm

    大功率LED光源

    基于SLM光引擎

    多種數(shù)據(jù)輸入格式

    基本灰度曝光模式

    對準攝像系統(tǒng)

    實時自動對焦

    User-optimized接觸向導
     

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