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    DS-2000/14K型無(wú)掩膜光刻機(jī)

    產(chǎn)品品牌

    國(guó)產(chǎn)

    庫(kù)       存：

    1

    產(chǎn)       地：

    全國(guó)

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價(jià)       格：

    面議
    交易保障 擔(dān)保交易 網(wǎng)銀支付

    品牌：國(guó)產(chǎn)

    型號(hào)：

    所屬系列：半導(dǎo)體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-其它光刻設(shè)備

     

    DS-2000/14K型無(wú)掩膜光刻機(jī)

    主要技術(shù)指標(biāo)：

    單次曝光面積：1.4mm×1mm

    最大曝光基片：100mm ×100mm

    對(duì)準(zhǔn)精度：±0.8μm（半自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)）

    最大膠厚：300μm（SU8膠）

    自動(dòng)逐場(chǎng)對(duì)焦；

    分辨力：1μm；

    X、Y、Z、θ四自由度電動(dòng)位移臺(tái)

    X、Y平移重復(fù)定位精度：0.65μm（3σ）

    Z向運(yùn)動(dòng)精度：1μm


    技術(shù)特點(diǎn)：

    該機(jī)可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波長(zhǎng)的極紫外光作為光源，用DMD數(shù)字微鏡陣列替代傳統(tǒng)掩模板，采用積木 錯(cuò)位蠅眼透鏡實(shí)現(xiàn)高均

    勻照明，并配備了雙目雙視顯微鏡和CCD圖象對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)（可同時(shí)使用），拼接獲得大面積圖形，曝光設(shè)定采用微機(jī)控制，菜單界面友好，操作簡(jiǎn)便。

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    4001027270

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