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ST-1500i投影光刻機(jī)

主要技術(shù)指標(biāo)：

曝光場(chǎng)面積：10mm×10mm

分辨力：0.8-1μm（膠厚2μm的正膠）；

套刻精度：1μm

物鏡倍率：1：10

掩模尺寸:4 inch、5 inch

基片尺寸：2 inch、3 inch、4 inch、6 inch

工件臺(tái)運(yùn)動(dòng)范圍：X：150mm、 Y：150mm；

工件臺(tái)運(yùn)動(dòng)定位精度：±0.65μm；

技術(shù)特點(diǎn)：

采用CCD檢焦系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)整場(chǎng)調(diào)平、自動(dòng)逐場(chǎng)調(diào)焦或自動(dòng)選場(chǎng)調(diào)焦曝光。10倍縮小投影光刻物鏡成像，一次曝光面積約10mm×10mm 采用專利技術(shù)——積木錯(cuò)位蠅眼透鏡實(shí)現(xiàn)均明，進(jìn)口精密光柵、進(jìn)口電機(jī)、進(jìn)口導(dǎo)軌、進(jìn)口絲杠實(shí)現(xiàn)精確工件定位和曝光拼接，可適應(yīng)2英寸、3英寸、4英寸、6英寸基片。具備對(duì)準(zhǔn)和套刻功能，操作方便、實(shí)用性強(qiáng)。

ST-1500i投影光刻機(jī)

應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

產(chǎn)品品牌

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技術(shù)特點(diǎn)：

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