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    PECVD設(shè)備 NPE-4000自動ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 那諾-馬斯特

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-PECVD

    產(chǎn)品品牌

    那諾-馬斯特/Nano-Master

    庫       存：

    999

    產(chǎn)       地：

    美國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    品牌：那諾-馬斯特/Nano-Master

    型號：

    所屬系列：半導(dǎo)體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-PECVD

    NPE-4000全自動ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述：NANO-MASTER ICPECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到z大可達6” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺可以通過RF或脈沖DC產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機械泵，腔體可以達到低至10-7 torr的真空。標準配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個MFC.帶有*氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無論是等離子強度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋z廣的可能性來獲得各種沉積參數(shù)。

    NPE-4000全自動ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)應(yīng)用：

    1. 等離子誘導(dǎo)表面改性：就是通常所說的用等離子實現(xiàn)表面改性(如親水性、疏水性等)

    2. 等離子清洗：去除有機污染物

    3. 等離子聚合：對材料表面產(chǎn)生聚合反應(yīng)

    4. 沉積二氧化硅、氮化硅、DLC(類金剛石)，以及其它薄膜

    5. CNT(碳納米管)和石墨烯的選擇性生長：在需要的位置生長CNT或石墨烯。

     

    系統(tǒng)特點：

    • 立式ICPECVD系統(tǒng)

    • 不銹鋼或鋁制腔體

    • 極限真空可達10-7Torr

    • 全自動上下載片，帶預(yù)真空鎖

    • ICP離子源

    • 高達6”(150mm)直徑的樣品臺

    • RF射頻偏壓樣品臺

    • 水冷樣品臺

    • 可加熱到的800 °C樣品臺

    • 加熱的氣體管路

    • 加熱的液體傳送單元

    • 抗腐蝕的渦輪分子泵組

    • z大可支持到8MFC

    • 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制

    • 菜單驅(qū)動，4級密碼訪問保護

    • 完整的安全聯(lián)鎖 

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