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    LPCVD

    應用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設備-鍍膜設備-LPCVD

    產品品牌

    AS賽瑞達

    規(guī)格型號：

    4-6"

    發(fā)貨期限：

    90天天

    庫       存：

    1

    產       地：

    中國-山東省

    數       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
    交易保障 擔保交易 網銀支付

    品牌：AS賽瑞達

    型號：4-6"

    所屬系列：半導體加工設備-鍍膜設備-LPCVD

      LPCVD是用加熱的方式，在低壓條件下，使氣態(tài)化合物在基片表面反應并淀積形成穩(wěn)定固體薄膜。由于工作壓力低，氣體分子的平均自由程和擴散系數大，故可采用密集裝片方式來提高生產率，并在襯底表面獲得均勻性良好的薄膜淀積層。LPCVD用于淀積Poly-Si,Si3N4, SiO2, 磷硅玻璃，硼磷硅玻璃，非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜。廣泛應用于半導體集成電路，電力電子，光電子及MEMS等行業(yè)的生產工藝中。

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