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    LPCVD system(低壓力化學(xué)氣相沉積系統(tǒng))

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-LPCVD

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    1

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    全國

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    所屬系列：半導(dǎo)體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-LPCVD

     LPCVD system(低壓力化學(xué)氣相沉積系統(tǒng))。設(shè)備主要部件全部選用國際主流知名品牌，適用于IC芯片制造、可控硅芯片制造、二三極管芯片制造、整流橋芯片制造、太陽能電池芯片制造等各種芯片造行業(yè)。涵蓋工藝包括：LTO（二氧化硅）、PSG（磷硅玻璃）、SIPOS（半絕緣多晶硅）、POLY（多晶硅）、SI3N4（氮化硅）、TEOS等。設(shè)備成熟穩(wěn)定安全可靠，可配套提供相應(yīng)工藝技術(shù)支持。

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