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    包郵 關(guān)注:812

    LPCVD system(低壓力化學氣相沉積系統(tǒng))

    應用于半導體行業(yè):

    半導體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-LPCVD

    庫       存:

    1

    產(chǎn)       地:

    全國

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    面議
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    品牌:

    型號:

    所屬系列:半導體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-LPCVD

     LPCVD system(低壓力化學氣相沉積系統(tǒng))。設(shè)備主要部件全部選用國際主流知名品牌,適用于IC芯片制造、可控硅芯片制造、二三極管芯片制造、整流橋芯片制造、太陽能電池芯片制造等各種芯片造行業(yè)。涵蓋工藝包括:LTO(二氧化硅)、PSG(磷硅玻璃)、SIPOS(半絕緣多晶硅)、POLY(多晶硅)、SI3N4(氮化硅)、TEOS等。設(shè)備成熟穩(wěn)定安全可靠,可配套提供相應工藝技術(shù)支持。

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