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    包郵 關(guān)注:812

    LPCVD system(低壓力化學氣相沉積系統(tǒng))

    應用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-LPCVD

    庫       存：

    1

    產(chǎn)       地：

    全國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

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    品牌：

    型號：

    所屬系列：半導體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-LPCVD

     LPCVD system(低壓力化學氣相沉積系統(tǒng))。設(shè)備主要部件全部選用國際主流知名品牌，適用于IC芯片制造、可控硅芯片制造、二三極管芯片制造、整流橋芯片制造、太陽能電池芯片制造等各種芯片造行業(yè)。涵蓋工藝包括：LTO（二氧化硅）、PSG（磷硅玻璃）、SIPOS（半絕緣多晶硅）、POLY（多晶硅）、SI3N4（氮化硅）、TEOS等。設(shè)備成熟穩(wěn)定安全可靠，可配套提供相應工藝技術(shù)支持。

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