一、設(shè)備名稱：手動貼蠟機，研磨機（含開槽機），拋光機
二、數(shù)量及品牌：一條InP 晶圓加工線，廠家：日本ENGIS 株式會社。
三、技術(shù)參數(shù)：
3.1 設(shè)備總體描述：該生產(chǎn)線主要用于2-4inch InP 晶圓的背面減薄。
手動上蠟機：將InP 晶圓正面粘貼在高平坦度陶瓷盤上，用于后段單面研磨及拋光。
研磨機：用來初步減薄InP 晶圓背面，盡量減少背面損傷層。
＠開槽機:用于開研磨盤溝槽，保證研磨品質(zhì)穩(wěn)定。
拋光機：將研磨后的InP 晶圓進行拋光，消除背面損傷層。
3.2 設(shè)備規(guī)格及其型號：
手動貼蠟機：
設(shè)備的設(shè)計理念及特征
將陶瓷盤加熱，在陶瓷盤上均勻涂上固體蠟，將InP 晶圓均勻粘貼在陶瓷盤上。
并將上部的沖壓頭靠氣缸壓力來壓著粘有晶片的陶瓷盤，讓InP 晶圓牢固粘貼在陶瓷盤上。
主要規(guī)格：
設(shè)備型號EBM-200-1AL-TC
粘貼壓力MAX 100kgf at 0.25MPa Silicon Pad
粘貼尺寸MAX OD 200mm
腔U/D 氣缸Pneumatic ram OD63 Stoke:170mm
腔真空真空發(fā)生器
冷卻不銹鋼水管套
時間控制真空和壓力
尺寸400mm(W) 300mm(D)730mm（H）
重量約100kg
特點：
水冷系統(tǒng)用專用冷水機控制水溫
時間控制系統(tǒng)采用電動氣閥
真空腔用真空發(fā)生泵
硅膠加壓PAD 晶圓TTV,BOW,WARP 穩(wěn)定性高
設(shè)備要求：
真空0.6 MPa
選配:
1， 冷水機；2，加熱臺EC-1200N；3，ENGIS 固體蠟；4，陶瓷盤
單面研磨設(shè)備：
設(shè)備的設(shè)計理念及特征
搭載開槽裝置的超高精密研磨設(shè)備EJW-400IFN 是采用高剛性機體和獨自開發(fā)的水冷式主
軸，經(jīng)常保持一定的定盤溫度，并且可以在超低震動狀態(tài)下高精度旋轉(zhuǎn)。另外，由于采用
高精度的開槽裝置，設(shè)備可以經(jīng)常維持穩(wěn)定高精度的定盤平坦度進行加工。
主要規(guī)格：
1-1 研磨設(shè)備
設(shè)備型號EJW-400IFN
研磨盤直徑外徑φ380mm；內(nèi)徑φ140mm
定盤轉(zhuǎn)速10~350rpm 可調(diào)（軟起動/停機）
主電機200V 1.5Kw 3 相
定盤冷卻方式恒溫水循環(huán)方式
陶瓷修整輪ACR-102S X 最大3 組
加壓方式自重加壓
工件固定方式通過使用陶瓷修正輪用滾軸手臂固定
主軸部分高剛性水冷主軸，0-350rpm
加工時間最大999 分59 秒
1-2 開槽設(shè)備
盤面修正精度±2um 以內(nèi)，200mm 區(qū)域
修盤跨度范圍：150mm；開槽精度±2μm
修正盤面速度0~250rpm 可調(diào)
加工軸數(shù)量3 軸
數(shù)字顯示屏MAX 99min 59sec；可輸入99 套程序。
《安全裝置》緊急停止按鈕設(shè)備正面1 個φ30mm 按壓鎖定重置式
《設(shè)備概要》
尺寸940mm×1600mm×1460mmH *含防塵蓋高度
重量1000Kg(NET)
單面拋光設(shè)備：
設(shè)備的設(shè)計理念及特征
本設(shè)備是搭載φ300mm（12 英寸）定盤的高精度、高效率的拋光機。任何人通過配置在設(shè)
備后部的臺式定盤修正機都可以非常容易的實現(xiàn)定盤平面度數(shù)μｍ以內(nèi)的修正，從而實現(xiàn)
高精度拋光加工。
主要規(guī)格：
設(shè)備型號EJ-380INWS
定盤直徑外徑φ380mm×內(nèi)徑φ140mm(標準尺寸)
水冷部位密閉型冷卻水循環(huán)式(內(nèi)循環(huán)分離式)
《設(shè)備概要》
尺寸705mm×750mm×680mmH *含防塵蓋高度
重量100Kg(NET)
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