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    精密平面拋光機KD24Q(新)

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè):

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-晶圓減薄拋光設(shè)備-拋光機

    庫       存:

    1000

    產(chǎn)       地:

    中國-廣東省

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    面議
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    用途:
    不銹鋼、銅、鋁合金、五金零部件,氣壓、液壓、水壓等密封件、光學(xué)晶體、藍(lán)寶石玻璃、LED藍(lán)寶石襯底、導(dǎo)光板模仁、壓電陶瓷片、氧化鋁陶瓷、塑膠片、硅片等各中金屬及非金屬材料,大批量平面高精密研磨或拋光。


    設(shè)備原理
    1.本研磨機為單面精密研磨拋光設(shè)備,被磨、拋工件放于研磨盤上,研磨盤逆時鐘轉(zhuǎn)動,通過摩擦力使工件自轉(zhuǎn),及加壓重塊對工件施壓,工件與研磨盤作相對運轉(zhuǎn)磨擦,來達(dá)到對工件的研磨拋光目的。
    2.我司研發(fā)的研磨盤修整機構(gòu)采用油壓懸浮導(dǎo)軌前后往復(fù)運動,金剛石修面刀給研磨盤的研磨面進(jìn)行精密修整,磨盤得到理想的平面效果。 


    技術(shù)參數(shù)

      磨盤尺寸(mm)   φ610mm
      最大加工尺寸(mm)   215mm
      磨盤轉(zhuǎn)速(r.p.m)   0-80r.p.m
      電機總功率(kw/380v)

      2.4kw

      氣壓(M pa)

      0.5-0.6

      外形尺寸(w*d*h)   1350mm*1630mm*2000mm
      重量(kg)   1040kg

     

    備注:由于技術(shù)不斷更新,以上數(shù)據(jù)僅供參考,最終以實體數(shù)據(jù)為準(zhǔn)!

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