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精密拋光機(jī)介紹:
1. GNAD61 精密研磨拋光機(jī),主機(jī)及所有的零備件均采用高防腐蝕材料,整機(jī)防腐,適用于硅等多種半導(dǎo)體材料的化學(xué)機(jī)械研磨拋光。設(shè)備可加工樣品尺寸范圍為4英寸以下樣片。
2. GNAD61 設(shè)備設(shè)有一個(gè)工作站,可加工一片4英寸的樣品及若干小于 4英寸的不同形狀及尺寸的樣片。設(shè)備夾具具有100%范圍擺動(dòng)的功能。這一功能設(shè)計(jì),可以保證設(shè)備在研磨拋光過(guò)程中,實(shí)現(xiàn)樣品的全擺動(dòng)拋光,大大提升了設(shè)備的拋光產(chǎn)能及效率,同時(shí)也避免了拋光時(shí)間過(guò)長(zhǎng)造成的樣片塌邊現(xiàn)象。
3. GNAD61 設(shè)備主機(jī)配有真空系統(tǒng)和自動(dòng)填料系統(tǒng)等相關(guān)組件。真空系統(tǒng),包括真空泵,過(guò)濾系統(tǒng)及相關(guān)連接組件。真空系統(tǒng)通過(guò)抽真空的方式將樣品直接吸附在樣品固定裝置底面。根據(jù)不同工藝要求,真空系統(tǒng)可以直接吸附樣品或者直接吸附貼有樣品的玻璃基板。GNAD61 設(shè)備隨主機(jī)標(biāo)配的玻璃基板采用高質(zhì)量浮法玻璃,經(jīng)過(guò)精密的研磨工藝使基本實(shí)現(xiàn)高平整度,TTV≤2um.真空系統(tǒng)搭載的過(guò)濾裝置,可以有效的過(guò)濾磨拋過(guò)程中產(chǎn)生的廢料液,以避免廢液被吸入真空泵造成故障。
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