X62 D16S-W型拋光機(jī)技術(shù)規(guī)格書(shū)

一、產(chǎn)品用途

本設(shè)備主要用于光學(xué)玻璃、陶瓷，硅片、鍺片、計(jì)算機(jī)磁盤(pán)基片等電子材料及其他硬脆材料的雙面高精度拋光加工，適用于5〃（φ125mm）以下硅片及同尺寸規(guī)格異形平行平面材料的雙面精密拋光加工。

二、主要特點(diǎn)

2.1整機(jī)采用龍門(mén)結(jié)構(gòu)，主體采用箱形結(jié)構(gòu)，整體剛性好。

2.2采用四動(dòng)作拋光機(jī)理，實(shí)現(xiàn)對(duì)工件非強(qiáng)制性的約束方式，因此在拋光過(guò)程中零件不易破損。

2.3、加壓系統(tǒng)分成輕壓、 中壓、重壓和修正（輕壓）四個(gè)階段，廣泛適用于各行業(yè)用戶的加工需求。

2.4、本機(jī)采用下盤(pán)升降方式，升降極限位置可調(diào)，滿足了取放片及游輪嚙合位置改變的要求。

2.5、采用三相交流異步電機(jī)，變頻調(diào)速，起動(dòng)及停車(chē)平穩(wěn)，無(wú)沖擊。

2.6、設(shè)備采用程序控制，設(shè)定好時(shí)間、壓力段，屆時(shí)自動(dòng)停車(chē)。因此，一人可同時(shí)操作多臺(tái)機(jī)器。

2.7、本設(shè)備電氣通過(guò)PLC控制，四行文本顯示器顯示。

2.8、采用全齒輪傳動(dòng)方式，傳動(dòng)平穩(wěn)，可靠性高。

三、主要技術(shù)參數(shù)

3.1、拋光盤(pán)尺寸：φ1155mm×φ349mm×50mm

3.2、 游星片參數(shù)：英制：齒數(shù)Z=200  模數(shù)DP12  α=20°

3.3、游星片數(shù)量：5片

3.4、修正輪數(shù)量：4個(gè)

3.5、加工能力：   85片/φ75mm，40片/φ100mm，20片/φ150mm

3.6、下拋光盤(pán)轉(zhuǎn)速：0～60rpm

3.7、整機(jī)功率：

主電機(jī)：15kW、AC380V、1460rpm、50Hz

砂泵：  1/4HP 70L/min。

3.8、設(shè)備外形尺寸（長(zhǎng)×寬×高）：2000mm×1400mm×2670mm

3.9、設(shè)備質(zhì)量：約5500Kg

四、基本配置

4.1、氣缸:                           SMC、嘉貿(mào)等  

4.2、精密減壓閥：                    SMC

4.3、電磁閥                          MAC

4.4、減速箱:                         國(guó)產(chǎn)

4.5、PLC及文本:                     臺(tái)達(dá)

4.6、變頻器:                         施耐德

4.7、軸承:                           國(guó)產(chǎn)

五、精度指標(biāo)

5.1、下拋盤(pán)端面跳動(dòng)0.08mm；

5.2、上、下拋光盤(pán)平面度0.03mm。

六、設(shè)備的安裝

   設(shè)備應(yīng)安裝在地面平坦、安裝厚度應(yīng)大于300mm，遠(yuǎn)離振動(dòng)源，無(wú)灰塵煙霧污染的場(chǎng)所。

    a 溫度10℃-25℃

    b 相對(duì)濕度≦95%

c 電源電壓AC380V ，50Hz

d、壓縮空氣源 0.5-0.6MPa（干燥的清潔空氣）

    e、冷卻水 10-20℃、0.15-0.2MPa