DZS450型電子束鍍膜設備 沈陽鵬程真空
主要用途:
用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等,廣泛應用于大專院校、科研機構的科研及小批量生產。
系統組成:
系統主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱蒸發(fā)電極、旋轉基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。
技術指標:
極限真空度:≤6.7×10 Pa
恢復真空時間:從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min
系統漏率:6. 7×10-7Pa.L/S;
真空室:真空室500x500 x600mm采用U型箱體前開門,后置抽氣系統e型電子槍:陽極電壓:6kv、8kv(1套)
坩堝:水冷式坩堝,四穴設計,每個容量11ml
功率:0-6KW可調
電阻蒸發(fā)源(可選)
電壓:5、10V
功率:電流300A,最大輸出功率3Kw1套,可切換水冷電
極3根,組成2個蒸發(fā)舟
基片尺寸:可放置4″基片
樣品臺:基片可連續(xù)回轉,轉速5-60轉/分基片與蒸發(fā)源之間距離300-350mm加熱最高溫度 800°C±1°C,可調手動控制樣品擋板組件1套
氣路系統:質量流量控制器1路
石英晶振膜厚控制儀:監(jiān)測膜厚顯示范圍:0-99μ9999Å