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DZS450型電子束鍍膜設(shè)備沈陽鵬程真空

　　主要用途：

　　用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等，廣泛應(yīng)用于大專院校、科研機構(gòu)的科研及小批量生產(chǎn)。

　　系統(tǒng)組成:

　　系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱蒸發(fā)電極、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機臺等部分組成。

　　技術(shù)指標：

　　極限真空度：≤6.7×10 Pa

　　恢復(fù)真空時間：從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min

　　系統(tǒng)漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；

　　真空室：真空室500x500 x600mm采用U型箱體前開門，后置抽氣系統(tǒng)e型電子槍：陽極電壓：6kv、8kv(1套)

　　坩堝：水冷式坩堝，四穴設(shè)計，每個容量11ml

　　功率：0-6KW可調(diào)

　　電阻蒸發(fā)源(可選)

　　電壓：5、10V

　　功率：電流300A，最大輸出功率3Kw1套，可切換水冷電

　　極3根，組成2個蒸發(fā)舟

　　基片尺寸：可放置4″基片

　　樣品臺：基片可連續(xù)回轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速5-60轉(zhuǎn)/分基片與蒸發(fā)源之間距離300-350mm加熱最高溫度 800°C±1°C，可調(diào)手動控制樣品擋板組件1套

　　氣路系統(tǒng)：質(zhì)量流量控制器1路

　　石英晶振膜厚控制儀：監(jiān)測膜厚顯示范圍：0-99μ9999Å

DZS450型電子束鍍膜設(shè)備沈陽鵬程真空

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