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法國(guó) Plassys MEB550SL3 超高真空多腔體電子束鍍膜機(jī)
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詳細(xì)介紹 |
超高真空多腔體電子束蒸鍍系統(tǒng) 磁控濺射、電子束蒸鍍、超高真空、鍍膜、約瑟夫森結(jié)、超導(dǎo)、量子器件、量子比特、 多腔體、Qubit、UHV、鈮基超導(dǎo)、氮化鈮、鈦氮化鈮、NbTiN、NbN、sputtering system Evaporation system、Nb-based superconductor、超導(dǎo)鋁結(jié)、Josephson junction 品牌:PLASSYS 型號(hào):MEB 550SL3 產(chǎn)地:歐洲 法國(guó) 應(yīng)用:約瑟夫森結(jié)(Al, Nb, NbN, NbTiN) 超高真空多腔體電子束蒸發(fā)鍍膜儀 電子束蒸鍍儀是納米器件制備中必不可少的儀器,用于蒸鍍各種高純金屬薄膜,如Ti, Au, Ni, Cr, Al, Al2O3等。電子束蒸發(fā)沉積法可在同一蒸發(fā)沉積裝置中安裝多個(gè)坩堝,使得可以蒸發(fā)和沉積多種不同的高質(zhì)量金屬薄膜。開(kāi)展量子計(jì)算機(jī)實(shí)驗(yàn)研究,如基于金剛石NV色心,離子阱,超導(dǎo)量子結(jié),量子點(diǎn)電子自旋的研究,均需要蒸鍍各種高質(zhì)量金屬薄膜來(lái)制備量子器件,特別是在利用超導(dǎo)量子結(jié)來(lái)實(shí)現(xiàn)量子計(jì)算的實(shí)驗(yàn)研究中,Josephson結(jié)的制備最為關(guān)鍵:需要在非常干凈的蒸鍍腔里進(jìn)行,而且需要在不同的角度上蒸鍍兩次,兩次之間需要注入氧氣進(jìn)行金屬氧化。所以樣品臺(tái)必須具有三維的旋轉(zhuǎn)功能,同時(shí),蒸鍍腔內(nèi)還需要有可以注射氧氣及其他氣體來(lái)實(shí)現(xiàn)清潔和氧化過(guò)程。 推薦配置:可以用于沉積Ti, Ni, Au, Cr, Al, Al2O3等金屬及氧化物薄膜,目前全球主要超導(dǎo)量子實(shí)驗(yàn)室均使用該設(shè)備制備超導(dǎo)Al結(jié)(量子比特和約瑟夫森結(jié))和量子器件,可以制備大面積、高度穩(wěn)定性和可重復(fù)性超導(dǎo)結(jié)。更詳細(xì)信息或資料,請(qǐng)咨詢我們! 預(yù)處理腔:襯底旋轉(zhuǎn)、傾斜(3D);干泵+ 分子泵; 真空度10-8 T 蒸發(fā)鍍膜腔:電子槍6-15KW; 樣品臺(tái):可加載4英寸襯底; 襯底可加熱到800℃ 襯底旋轉(zhuǎn)、傾斜, 傾斜精度和重復(fù)性優(yōu)于0.1°(可升級(jí)) 真空泵系統(tǒng):干泵 + 低溫泵; 真空度10-10T或10-11T 膜厚控制儀:頻率分辨率10-4Hz或更高; 速率分辨率10-3nm/s; 厚度分辨率10-2nm 殘余氣體分析儀 反應(yīng)蒸鍍:氧氣氣路+MFC 氧化腔體:靜態(tài)/動(dòng)態(tài)氧化 臭氧發(fā)生器/原子氧發(fā)生源/輝光放電; 鹵素?zé)艏訜嶂磷罡?00℃ 殘余氣體分析儀 分子泵 + 干泵;真空度<10-8 T 全自動(dòng)軟件包,支持半自動(dòng)和手動(dòng)模式,支持遠(yuǎn)程網(wǎng)絡(luò)操作和維護(hù)。 典型用戶:耶魯大學(xué)、日本NTT、中科院物理所、中科大、南大、南方科技大學(xué) |
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