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    日本Advance Riko 電弧等離子體沉積系統(tǒng)APD

    產(chǎn)品品牌

    日本Advance

    庫       存:

    1

    產(chǎn)       地:

    全國

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    面議
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    品牌:日本Advance

    型號:

    所屬系列:半導(dǎo)體加工設(shè)備-刻蝕設(shè)備-其它刻蝕設(shè)備

     
    日本Advance Riko 電弧等離子體沉積系統(tǒng)APD
    詳細介紹
    電弧等離子體沉積系統(tǒng)
     
        日本Advance Riko 公司致力于電弧等離子體沉積系統(tǒng)(APD)利用脈沖電弧放電將電導(dǎo)材料離子化,產(chǎn)生高能離子并沉積在基底上,制備納米級薄膜鍍層或納米顆粒。
     
       電弧等離子體沉積系統(tǒng)利用通過控制脈沖能量,可以在1.5nm到6nm范圍內(nèi)精確控制納米顆粒直徑,活性好,產(chǎn)量高。多種靶材同時制備可生成新化合物。金屬/半導(dǎo)體制備同時控制腔體氣氛,可以產(chǎn)生氧化物和氮化物薄膜。高能量等離子體可以沉積碳和相關(guān)單質(zhì)體如非晶碳,納米鉆石,碳納米管 形成新的納米顆粒催化劑。
     
    主要應(yīng)用領(lǐng)域: 
     
    1、制備新金屬化合物,或制備氧化物和氮化物薄膜(氧氣和氮氣氛圍);
    2、制備非晶碳,納米鉆石以及碳納米管的納米顆粒;
    3、形成新的納米顆粒催化劑(廢氣催化劑,揮發(fā)性有機化合物分解催化劑,光催化劑,燃料電池電極催化劑,制氫催化劑);
    4、用熱電材料靶材制備熱電效應(yīng)薄膜。
     
     
    技術(shù)原理:
    1、在觸發(fā)電極上加載高電壓后,電容中的電荷充到陰極(靶材)上;
    2、真空中的陽極和陰極(靶材)間,電子形成了蠕緩放電,并產(chǎn)生放電回路,靶材被加熱并形成等離子體;
    3、通過磁場控制等離子體照射到基底上,形成薄膜或納米顆粒。
                
     
     材料適用性:

    APD適用于元素周期表中大部分高導(dǎo)電性金屬,合金以及半導(dǎo)體。所用原料為直徑10mmX17mm長圓柱體或管狀體,且電阻率小于0.01 ohm.cm。下面的元素周期表顯示了可制備的材料,綠色代表完全適用,黃色代表在一定條件下適用。

     
     
    設(shè)備特點:
     


    1. 系統(tǒng)可以通過調(diào)節(jié)放電電容選擇納米顆粒直徑在1.5nm到6nm范圍內(nèi)。

    2. 只要靶材是導(dǎo)電材料,系統(tǒng)就可以將其等離子體化。(電阻率小于0.01ohm.cm)。

    3. 改變系統(tǒng)的氣氛氛圍,可以制備氧化物或氮化物。石墨在氫氣中放電能產(chǎn)生超納米微晶鉆石。

    4. 用該系統(tǒng)制備的活性催化劑效果優(yōu)于濕法制備。

    5. Model APD-P支持將納米顆粒做成粉末。Model APD-S適合在2英寸基片上制備均勻薄膜。
     
    APD制備的Fe-Co納米顆粒的SEM和EDS圖譜


     系統(tǒng)參數(shù):
     
    1. 真空腔尺寸:400x400X300長寬高
    2. 抽空系統(tǒng):分子泵450L/s
    3. 電弧等離子體源:標配一個,最多3個
    4. 沉積氣壓:真空或者低氣壓氣體(N2, H2,O2,Ar)
    5. 靶材:導(dǎo)電材料,外徑10mm,長17mm
    6. 靶材電阻率:小于0.01歐姆厘米
    7. 電容:360uF  X5 (可選)
    8. 脈沖速度:1,2,3,4,5 Pulse/s
    9. 操作界面:觸摸屏
    10. 放電電壓:70V-400V (1800uF下最大150V)
     
    APD-P 粉末容器:直徑95mm 高30mm
    形成粉末的速度:13-20cc (隨顆粒尺寸和密度變化)
    旋轉(zhuǎn)速度:1-50rpm
     
     
     
     
     
     設(shè)備對比:
     
     

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