PVA TePla等離子體處理設(shè)備/刻蝕系統(tǒng)RIE/
型號(hào):IoN 10V
應(yīng)用:
倒裝清洗
刻蝕鈍化層
光刻膠去除
低溫灰化
SU-8去除
殘膠去除
晶圓封裝清洗
晶圓表面預(yù)處理
涂層
表面修飾
射頻功率:13.56MHz,0-600W(可選0-300W,0-1000W)
載盤尺寸:13‘’(12寸晶圓),9‘’(8寸晶圓)
腔體體積:約7L
工藝氣體:標(biāo)配2路,可擴(kuò)展至4路。
氣體種類:O2,CF4,Ar,C4F8,N2,CH4,N2O,N2,Air等
腔體材質(zhì):鋁(可選不銹鋼)
配備自動(dòng)壓力控制系統(tǒng)
選配:
溫控盤(0-80度,或50-200度)
認(rèn)證:
CE Certified
EN 61010
EN 61326