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    包郵 關(guān)注:544

    PVA TePla 射頻等離子體刻蝕系統(tǒng)

    產(chǎn)品品牌

    PVA TePla

    規(guī)格型號(hào):

    射頻等離子體設(shè)備

    庫(kù)       存:

    1000

    產(chǎn)       地:

    美國(guó)

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價(jià)       格:

    面議
    交易保障 擔(dān)保交易 網(wǎng)銀支付

    品牌:PVA TePla

    型號(hào):射頻等離子體設(shè)備

    所屬系列:半導(dǎo)體加工設(shè)備-刻蝕設(shè)備-其它刻蝕設(shè)備

     PVA TePla等離子體處理設(shè)備/刻蝕系統(tǒng)RIE/

    型號(hào):IoN 10V

    應(yīng)用:
    倒裝清洗
    刻蝕鈍化層
    光刻膠去除
    低溫灰化
    SU-8去除
    殘膠去除
    晶圓封裝清洗
    晶圓表面預(yù)處理
    涂層 
    表面修飾

    射頻功率:13.56MHz,0-600W(可選0-300W,0-1000W)

    載盤尺寸:13‘’(12寸晶圓),9‘’(8寸晶圓)
    腔體體積:約7L
    工藝氣體:標(biāo)配2路,可擴(kuò)展至4路。
    氣體種類:O2,CF4,Ar,C4F8,N2,CH4,N2O,N2,Air等
    腔體材質(zhì):鋁(可選不銹鋼)
    配備自動(dòng)壓力控制系統(tǒng)

    選配:
    溫控盤(0-80度,或50-200度)

     
    認(rèn)證: 
    CE Certified 
    EN 61010 
    EN 61326 

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    4001027270

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