服務(wù)熱線
4001027270
可用于生產(chǎn)、科學(xué)實(shí)驗(yàn)及教學(xué),可根據(jù)用戶要求專*門訂制。
可根據(jù)用戶使用要求,選配石英晶體膜厚自動控制及光學(xué)膜厚自動控制兩種方式, 通過PLC 和工控機(jī)聯(lián)合實(shí)現(xiàn)對整個鍍膜過程的全程自動控制, 包括真空系統(tǒng)、烘烤系統(tǒng)、蒸發(fā)過程和膜層厚度的監(jiān)控功能等,從而提高了工作效率和保證產(chǎn)品質(zhì)量的一致性和穩(wěn)定性。
設(shè)備特點(diǎn)
設(shè)備具有真*空度高、抽速快、基片裝卸方便的特點(diǎn),配備 E 型電子束蒸發(fā)源和電阻蒸發(fā)源。PID自動控溫,具有成膜均勻、放氣量小和溫度均勻的優(yōu)點(diǎn)。
可根據(jù)用戶使用要求,選配石英晶體膜厚自動控制及光學(xué)膜厚自動控制兩種方式,通過PLC和工控機(jī)聯(lián)合實(shí)現(xiàn)對整個鍍膜過程的全程自動控制,包括真空系統(tǒng)、烘烤系統(tǒng)、蒸發(fā)過程和膜層厚度的監(jiān)控功能等,從而提高了工作效率和保證產(chǎn)品質(zhì)量的一致性和穩(wěn)定性。
真空性能
極限真空:7×10-5Pa~7×10-6Pa
設(shè)備總體漏放率:關(guān)機(jī)12小時(shí),≤10Pa
恢復(fù)工作真空時(shí)間短,大氣至7×10-4Pa≤30分鐘;
設(shè)備構(gòu)成
E 型電子束蒸發(fā)槍、電阻熱蒸發(fā)源組件(可選配)、樣品掩膜擋板系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)及真空測量系統(tǒng)、分子泵真空機(jī)組或低溫泵真空機(jī)組、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺、工作氣路、樣品傳遞機(jī)構(gòu),膜厚控制系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、恒溫冷卻水系統(tǒng)等組成。
可選件:膜厚監(jiān)控儀,恒溫制冷水箱。
熱蒸發(fā)源種類及配置
E 型電子束蒸發(fā)系統(tǒng) 1套
功率 6kW~10kW 其它功率(可根據(jù)用戶要求選配)
坩堝 1~8只 可根據(jù)用戶要求選配
電阻熱蒸發(fā)源組件 1~4套 (可根據(jù)用戶要求配裝)
電阻熱蒸發(fā)源種類
-鉭(鎢或鉬)金屬舟熱蒸發(fā)源組件
-石英舟熱蒸發(fā)源組件
-鎢極或鎢藍(lán)熱蒸發(fā)源組件
-鉭爐熱蒸發(fā)源組件(配氮化硼坩堝或陶瓷坩堝)
-束源爐熱蒸發(fā)組件(配石英坩堝或氮化硼坩堝)
操作方式
手動、半自動
1-3-6-3-2-7-5-0-0-1-7
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