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新技術(shù)原理新設(shè)計(jì)構(gòu)思研制模塊化組合易于實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化生產(chǎn)

X62 S50D-T型拋光機(jī)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：本機(jī)是我公司新一代單面研磨機(jī)，φ100-φ150藍(lán)寶石、電子材料半導(dǎo)體硅片、鍺片、計(jì)算機(jī)磁盤基片以及光學(xué)材料等金屬、非金屬硬脆材料的單面高精度拋光加工。

主要特點(diǎn)：

2.1主研盤和上研磨頭均設(shè)有強(qiáng)制冷卻（可選配冷水機(jī)），采用紅外測(cè)溫、閉環(huán)控溫；四個(gè)研磨頭采用變頻調(diào)速主動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)，研磨頭的壓力用電氣比例閥調(diào)控實(shí)現(xiàn)了多段壓力控制，可大區(qū)段自動(dòng)加壓，壓力最高可達(dá)450g/cm²；

2.2在控制上采用了工控機(jī)控制，靈敏性好，反饋迅速控制精確，操作方便，顯示豐富；

2.3電氣控制器件采用國(guó)外品牌（OMRON 、Raytek、和泉及施耐德等），可靠穩(wěn)定；

2.4主傳動(dòng)采用了椿本的環(huán)面包絡(luò)蝸輪蝸桿減速箱，四個(gè)研磨頭采用了臺(tái)灣利明減速電機(jī)驅(qū)動(dòng)，運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)壽命長(zhǎng)；

2.5主支座支撐處裝有四個(gè)減震器，很好的保證了各種工況下上下盤間的平行度，保證了加工質(zhì)量。

2.6承片盤的定位采用中心導(dǎo)輪和外導(dǎo)輪配合的自動(dòng)定位，操作方便。

2.7采用磁力驅(qū)動(dòng)循環(huán)泵輸送拋光液，出液口配有分液裝置及沉淀水槽；配有沖洗開關(guān)水槍；

主要技術(shù)參數(shù)：

下拋盤尺寸	φ1282mm (SUS410)
拋頭數(shù)量	4個(gè)
主電機(jī)	18.5kW
拋頭電機(jī)	1.5kw×4
下研磨盤轉(zhuǎn)速	0-70rpm（調(diào)頻調(diào)速）
拋光頭轉(zhuǎn)速	0-70rpm（調(diào)頻調(diào)速）
加工能力	36片/φ100mm， 24片/φ150mm
最小加工厚度	0.2mm
外型尺寸	1850mm (W)×1830mm (D)×2925mm (H)
重量	約7000kg

產(chǎn)品選配表：

拋頭電機(jī)	●			上下盤水冷	●
下盤電機(jī)	●			全裸結(jié)構(gòu)	●
水冷機(jī)			○
機(jī)械手			○
陶瓷盤		○

●標(biāo)配 ○可選裝

使用環(huán)境：

1）設(shè)備應(yīng)安裝在地面平坦，遠(yuǎn)離振動(dòng)源，無(wú)灰塵煙霧污染的場(chǎng)所。

2）溫度10℃-25℃

3）相對(duì)濕度≦95

4）電源電壓AC 380V ，50Hz

5）壓縮空氣源 0.5-0.6Mpa（必須為干燥的清潔空氣）

6）冷卻水水壓：2kgf/cm2 以下

水量：15L/min 溫度：7～12℃

X62 S50D-T型單面拋光機(jī)

應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

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