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    EVG 光刻機(jī)

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè):

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-雙面光刻機(jī)

    產(chǎn)品品牌

    EVG

    庫(kù)       存:

    5

    產(chǎn)       地:

    中國(guó)-上海市

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價(jià)       格:

    面議
    交易保障 擔(dān)保交易 網(wǎng)銀支付

    品牌:EVG

    型號(hào):

    所屬系列:半導(dǎo)體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-雙面光刻機(jī)

            1985年,EVG研制出世界上首臺(tái)綜合了高精度背面光學(xué)對(duì)位的光學(xué)雙面對(duì)位系統(tǒng)。這種高精度的背面對(duì)位技術(shù)是許多運(yùn)用,包括微系統(tǒng)和微機(jī)電技術(shù),得以實(shí)現(xiàn)和發(fā)展的關(guān)鍵?;跈C(jī)械的靈活性與組件式結(jié)構(gòu),EVG620系列光刻機(jī)能滿足所有最嚴(yán)格的單面和雙面精確對(duì)準(zhǔn)的硅片光刻要求。 EVG光刻機(jī)可根據(jù)用戶的不同要求,具有手動(dòng)操作,研究及發(fā)展和大批量全自動(dòng)生產(chǎn)應(yīng)用等不同的機(jī)型。今天,EVG提供世界上最先進(jìn)的對(duì)位系統(tǒng)。EVG620系列可提供最好的精度,適應(yīng)性,易用性和模塊升級(jí)能力。EVG620系列可實(shí)現(xiàn)最大150毫米的不同尺寸、形狀及厚度的材料的對(duì)準(zhǔn)。EVG還有EVG610, EVG6200, IQ-Aligner等多種光刻機(jī)型號(hào),可應(yīng)對(duì)客戶各種不同的需求。

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    提問:
     

    這個(gè)對(duì)準(zhǔn)誤差會(huì)不會(huì)超過0.5微米??

    gookjll  2017-08-07

    請(qǐng)問這個(gè)設(shè)備是雙面對(duì)準(zhǔn)的嗎?對(duì)準(zhǔn)精度多高??

    losaners2016  2017-08-17

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