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當(dāng)前位置: 首頁 » 設(shè)備館 » 半導(dǎo)體加工設(shè)備 » 光刻設(shè)備 » 雙面光刻機(jī) »EVG 雙面對準(zhǔn)光刻機(jī)
    包郵 關(guān)注:837

    EVG 雙面對準(zhǔn)光刻機(jī)

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè):

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-雙面光刻機(jī)

    庫       存:

    1

    產(chǎn)       地:

    全國

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    面議
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     EVG光刻機(jī)主要應(yīng)用于半導(dǎo)體光電器件、功率器件、微波器件及微電子機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)、硅片凸點、化合物半導(dǎo)體等領(lǐng)域,涵蓋了微納電子領(lǐng)域微米或亞微米級線條器件的圖形光刻應(yīng)用。

     

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    提問:
     

    這個對準(zhǔn)誤差會不會超過0.5微米??

    gookjll  2017-08-07

     理想的情況下是不會超過0.5微米,主要看客戶的產(chǎn)品。

    2017-08-07

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)的相關(guān)同類產(chǎn)品:

    服務(wù)熱線

    4001027270

    功能和特性

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