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    包郵 關注:810

    MEMS專用EVG光刻機

    應用于半導體行業(yè):

    半導體加工設備-光刻設備-雙面光刻機

    產品品牌

    EVG

    規(guī)格型號:

    EVG610單面/雙面光刻機

    發(fā)貨期限:

    6個月天

    庫       存:

    1

    產       地:

    中國-上海市

    數       量:

    減少 增加

    價       格:

    1.00
    交易保障 擔保交易 網銀支付

    品牌:EVG

    型號:EVG610單面/雙面光刻機

    所屬系列:半導體加工設備-光刻設備-雙面光刻機

     u 支持背面對準光刻和鍵合對準工藝

    u 自動的微米計控制曝光間距

    u 自動契型補償系統(tǒng)

    u 優(yōu)異的全局光強均勻度

    u 免維護單獨氣浮工作臺

    u 最小化的占地面積

    u Windows圖形化用戶界面

    u 完善的多用戶管理(用戶權限、界面語言、菜單和工藝控制)

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    提問:
     

    請問你們這個CCD對準精度多高?襯底尺寸 規(guī)格一般都是多少?

    gookjll  2017-08-07

     您好!

    可否留下您的聯(lián)系方式

    我給您詳細的技術參數!

    謝謝

    8寸以下兼容 對準精度 頂部0.5um  底部 1um 

    婁 13122976482

    2017-08-07

    基片的尺寸范圍多大?分辨率、對準精度多高?

    sjfh  2017-08-14

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    服務熱線

    4001027270

    功能和特性

    價格和優(yōu)惠

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