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G-31型精密光刻機操作程序的簡要說明：

一、主要用途

主要用于中小規(guī)模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn)。

二、工作方式

本機采用版—版對準雙面同時曝光

三、主要構(gòu)成

主要由高精度特制的翻版機構(gòu)、雙視場CCD顯微顯示系統(tǒng)、二臺多點光源式曝光頭、真空管路系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵、防震工作臺等組成。

四、主要功能特點

1.適用范圍廣

適用于φ100mm以下，厚度5mm以下的各種基片的對準曝光。

2.結(jié)構(gòu)先進

該機為雙面接觸式光刻機，特制的翻版機構(gòu)，能消除基片楔形誤差，保證上、下二塊掩膜版對基片上、下兩面良好的接觸，從而保證基片上、下兩面的曝光質(zhì)量。

3.操作簡便

采用手動方式；特制的翻版機構(gòu)

4.可靠性高

采用進口電磁閥、按鈕、定時器；真空管路系統(tǒng)和精密的零件加工，使本機具有非常高的可靠性。

五、主要技術(shù)指標

1、曝光類型：單面對準雙面曝光

2、曝光面積：≥φ100mm

3、曝光不均勻性：≤±4%

4、曝光強度：≥5mw/cm2

5、曝光分辨率：≤2μm

6、曝光模式：雙面同時曝光

7、對準精度：上版與下版的對準精度≤5μm

8、對準范圍：X:±5mm Y:±5mm

9、旋轉(zhuǎn)范圍：Q向旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)≥±5°

10、顯微系統(tǒng)：雙視場CCD系統(tǒng)，物鏡0.7X～4.5X，計算機圖像處理系統(tǒng)，19″液晶監(jiān)視器；

11、掩模版尺寸：3″×3″、4″×4″、5″×5″

12、基片尺寸：φ2″、φ3″、φ4″

13、基片厚度：≤5 mm

14、曝光燈功率：直流2×350W

15、曝光定時：0～999.9秒可調(diào)

16、電源：單相AC 220V 50Hz功耗≤1kW

17、潔凈壓縮空氣壓力：≥0.4Mpa

18、真空度：-0.07Mpa～-0.09Mpa

19、尺寸：900×700×1500 (L×W×H)mm；

20、重量：～150kg

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