產(chǎn)品描述

BG-406系列曝光機(jī)（光刻機(jī)) 主要用于中小規(guī)模集成電路、二極管、三極管、LED、電力電子器件、MEMS和其它半導(dǎo)體器件制造工藝中的對(duì)準(zhǔn)及曝光。該系列曝光機(jī)由4英寸、6英寸單/雙面曝光機(jī)組成，可實(shí)現(xiàn)單/雙面對(duì)準(zhǔn)、單面曝光、間隙曝光、全曝光。

主要技術(shù)特點(diǎn)
對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái) 
對(duì)準(zhǔn)精度高，漂移小。精密楔形誤差補(bǔ)償機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)三點(diǎn)找平，找平力小，延長(zhǎng)掩模版使用壽命。
曝光系統(tǒng) 
采用柱體蠅眼透鏡和高能力集光的橢球鏡等精密光學(xué)件，具有較高的光強(qiáng)、均勻性、光學(xué)分辨率。
分離視場(chǎng)顯微鏡
在X、Y方向通過(guò)操作桿可實(shí)現(xiàn)大范圍掃描觀察，可進(jìn)行單視場(chǎng)或雙視場(chǎng)切換，提高對(duì)準(zhǔn)效率和套刻精度，同時(shí)兼容CCD成像液晶顯示功能。
控制系統(tǒng)
電氣控制采用工控機(jī)，人機(jī)界面操作菜單清晰，操作方便，汞燈電源易于觸發(fā)，可靠性高。該設(shè)備的關(guān)鍵件采用進(jìn)口或?qū)I(yè)廠(chǎng)家制造，提高了設(shè)備的穩(wěn)定性、可靠性，同時(shí)提供個(gè)性化服務(wù)。

產(chǎn)品參數(shù)

對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)行程:

 X向：±5mm Y向：±5mm

 Z向：8mm θ向：±5°

□掩模尺寸：7″×7″

□基片尺寸：φ6″

□曝光方式：軟接觸、硬接觸

 真空接觸、間隙曝光、全曝光

□頂部對(duì)準(zhǔn)顯微鏡

 總倍率：

 100X （50X可選）

 掃描范圍：50mm×50mm

 調(diào)焦范圍：8mm

 28-90mm（φ4″基片）

 75-150mm（φ4″-φ6″基片）

 對(duì)準(zhǔn)精度：±0.5um

□底部對(duì)準(zhǔn)顯微鏡

 總倍率：330X

 物鏡分離距離：

 X向：50-140mm

 Y向：±12mm

 對(duì)準(zhǔn)精度：±2um

□曝光分辨率：1um （真空接觸）

□曝光間隙： 1-500um

□曝光面積： φ160 mm或φ108 mm

□曝光時(shí)間：0-999s 連續(xù)可調(diào)

□曝光不均勻性：

 ±5% (曝光面積：φ160 mm)

 ±3% (曝光面積：φ108mm)

□曝光系統(tǒng)及波長(zhǎng)

 采用250W進(jìn)口超高壓汞燈，UV365

□所需設(shè)施：

 輸入電壓：～220v±22v(50Hz)

 整機(jī)功率：1KW

 室內(nèi)光線(xiàn)：紅光、黃光

 壓縮空氣: 0.5～0.7MPa

 氮?dú)猓?0.2～0.4MPa

 真空： -0.08～-0.14MPa

□體積及重量：

 外型尺寸： 1022mm×850mm×1330mm

 重量：350kg