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    德國Zeiss Sigma SEM 電子束直寫儀

    應(yīng)用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-電子束曝光機

    產(chǎn)品品牌

    德國Zeiss

    庫       存：

    1

    產(chǎn)       地：

    全國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    品牌：德國Zeiss

    型號：

    所屬系列：半導體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-電子束曝光機

     德國Zeiss Sigma SEM 電子束直寫儀

    德 Zeiss SEM 電子束直寫儀

    主要功能：
    ·利用曝光抗蝕劑，采用電子束直接曝光，可在各種襯底材料表面直寫各種圖形，圖形結(jié)構(gòu)（最小線寬為10mm），是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要工具。廣泛應(yīng)用于納米器件，光子晶體，低維半導體等前沿領(lǐng)域。

    ·技術(shù)指標：
    ·肖特基熱場發(fā)射電子源
    ·加速電壓：100V～30kV
    ·放大倍率：12X～1000,000X
    ·SEM分辨率：1nm@30kV,1.5nm (15kV),2.8nm（1kV）
    ·電子束曝光：10nm（20kV）
    ·場拼接精度：<100nm
    ·掃描頻率：6MHz
    ·圖形格式：GDSII

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