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· 最新高精密JBX-8100FS圓形電子束光刻系統(tǒng),通過全方位的設(shè)計(jì)優(yōu)化,實(shí)現(xiàn)更簡便的操作,更快的刻寫速度,更小的占地面積和安裝空間,并且更加綠色節(jié)能。
最新高精密JBX-8100FS圓形電子束光刻系統(tǒng),通過全方位的設(shè)計(jì)優(yōu)化,實(shí)現(xiàn)更簡便的操作,更快的刻寫速度,更小的占地面積和安裝空間,并且更加綠色節(jié)能。
節(jié)省空間
標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)備占地面積為4.9m(W)×3.7m(D)×2.6m(H),比以往機(jī)型占用空間更小,外形更加緊湊美觀。
低功耗
正常工作時(shí)的功耗約為3kVA,僅需以往機(jī)型耗電量的1/3。
高產(chǎn)能
具備高分辨率和高速兩種刻寫模式,非常適用于超微細(xì)加工以及批量生產(chǎn)。該設(shè)備減少了刻寫過程中的無謂耗時(shí),并將掃描頻率提升至業(yè)界最高最水準(zhǔn)的125MHz (以往機(jī)型的1.25~2.5倍),使其具備更高的生產(chǎn)能力。
機(jī)型
JBX-8100FS系列設(shè)有G1(基本版)和G2(全配版)兩種機(jī)型。G1機(jī)型裝機(jī)后也可進(jìn)行升級(jí),使其支持更高的應(yīng)用需求。
新功能
安裝光學(xué)顯微鏡(選配)后,在避免光刻膠感光的的同時(shí)可對(duì)材料上的圖形進(jìn)行確認(rèn)。設(shè)備還配備了信號(hào)塔(標(biāo)配),實(shí)現(xiàn)了視覺范圍內(nèi)的系統(tǒng)運(yùn)行狀況監(jiān)控。
激光定位分辨率
采用分辨率為0.6nm的激光干涉儀,對(duì)樣品臺(tái)位置進(jìn)行高精度的量測控制。
系統(tǒng)控制
配備了Linux®系統(tǒng),圖形用戶界面使操作更加簡單,便于初學(xué)者使用。數(shù)據(jù)準(zhǔn)備程序支持Linux®和Windows®
主要技術(shù)指標(biāo)
機(jī)型 |
G1 (基本版) |
G2 (全配版) |
描畫方式 |
圓形束斑, 矢量掃描, 步進(jìn)重復(fù)移動(dòng)方式 |
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加速電壓 |
100kV |
100kV/50kV |
電流 |
5×10-12 ~ 2×10-7A |
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寫場尺寸 |
最大1,000μm×1,000μm |
最大2,000μm×2,000μm |
掃描頻率 |
最大125MHz |
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樣品臺(tái)移動(dòng)范圍 |
190mm×170mm |
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套刻精度 |
≦±9nm |
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場拼接精度 |
≦±9nm |
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正常工作時(shí)的功耗 |
3kVA |
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樣品尺寸 |
最大200mmΦ的晶圓片, 6英寸的掩模版及任意尺寸的的微小樣品。 |
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材料傳送 |
(1張)自動(dòng)裝載系統(tǒng) |
(12張)自動(dòng)裝載系統(tǒng) |
主要選配件 |
光學(xué)顯微鏡 |
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