1.系統(tǒng)適用于2"及以下的樣片,采用熱場(chǎng)發(fā)射電子槍,加速電壓為20V~30kV。可實(shí)現(xiàn)高分辨電子束曝光,最小驗(yàn)收線寬≤8nm。 2.系統(tǒng)中集成了高精度的激光干涉工作臺(tái),運(yùn)動(dòng)行程為50 x 50 x 25mm,XY方向定位精度為2nm,可以實(shí)現(xiàn)精確的拼接套刻,拼接套刻精度≤50nm。 3.系統(tǒng)兼具了高精度成像度量的功能,其成像效果和市面上中高端的熱場(chǎng)電鏡類似,放大倍數(shù)為20x ~1,000,000x。 4.另外,除了標(biāo)準(zhǔn)配置, 客戶還可以增加一些選配件,如選配背散射探測(cè)器、能譜儀等,進(jìn)行材料分析;選配工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)傾斜模塊,實(shí)現(xiàn)不同角度的材料成像等。如果選擇相應(yīng)的選配件,請(qǐng)?jiān)黾酉鄳?yīng)的價(jià)格。