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    德國Raith 150 Two 高分辨電子束曝光系統(tǒng)

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè):

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-電子束曝光機

    產(chǎn)品品牌

    德國Raith

    庫       存:

    1

    產(chǎn)       地:

    全國

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    面議
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    品牌:德國Raith

    型號:

    所屬系列:半導(dǎo)體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-電子束曝光機

     
    德國Raith 150 Two 高分辨電子束曝光系統(tǒng)
    Raith150 Two 高分辨電子束光刻機
    詳細介紹

    Raith 150 Two作為高分辨電子束曝光系統(tǒng),自推出以來全球銷量不容忽視。該系統(tǒng)被廣泛地用于研發(fā)和納米技術(shù)中心,已證明了系統(tǒng)的24/7使用的穩(wěn)定性。

    Raith 150 Two可實現(xiàn)亞5nm的曝光結(jié)構(gòu),可處理8”晶元及以下樣片。

    環(huán)境屏蔽罩保證了系統(tǒng)的熱穩(wěn)定性,提高設(shè)備對實驗室環(huán)境的容忍度,即使在相對糟糕的實驗室環(huán)境下,也能保證系統(tǒng)的正常穩(wěn)定運行。

    超高分辨曝光及成像

    00001. 小于8nm曝光

    00002. 低電壓曝光及成像

    00003. 系統(tǒng)自動化程度高

    00004. 最大可處理8"樣片

    00005. 隔墻安裝 / 熱穩(wěn)定性

    研發(fā)及小批量生產(chǎn)

    軟硬件的高自動化程度保障了小批量生產(chǎn)中進行簡單且可重復(fù)性的曝光工作。

    Raith 150 Two 高分辨的電子光學(xué)柱結(jié)合多種探測器可實現(xiàn)對準標(biāo)記識別和過程控制中前所未有的靈活性。

    Raith 150 Two 應(yīng)用

    · 75nmT型柵高電子遷移率晶體管器件

     

    · HSQ膠上制作亞4.5nm線條

     

    · 采用traxx長線條無寫場拼接曝光模式制作延遲波導(dǎo)結(jié)構(gòu)

    · 5um厚膠上制作三維菲涅爾透鏡陣列結(jié)構(gòu)

     

    · PMMA膠上制作精細的11nm線條

     

    · PMMA膠上制作60nm周期光柵結(jié)構(gòu)

    RAITH150 Two 產(chǎn)品詳情

    主要應(yīng)用:

    · 納米級光刻

    · 高分辨成像

    · 低電壓電子束光刻

     

     

     

    樣品臺:

    · 完整的6“ 移動范圍

    · Z軸移動范圍大

     

     

    電子槍技術(shù):

    · Gemini

    · 電子

    · 30 kV

    · Inlense二次電子探測器

    · 能量選擇背散射二次電子探測器(選配)

     

    獨特直寫模式:

    · traxx長線條無寫場拼接曝光模式

    · periodixx周期結(jié)構(gòu)無寫場拼接曝光模式

     

     

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